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| 品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
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●膜厚測量范圍1nm～92μm（換算為SiO2）
●膜厚值高重復精度
●1點1秒以內的高速測量
●最小小點Φ3μm）中瞄準模式
●最zui適shi合圖案晶片的膜厚映射
●能夠取得圖案對準用圖像
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝等
上海波銘科學儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統、晶萃光學機械和光學平臺、激光器、Edmund 光學元件、Newport 產品、濱松光電探測器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀、是德 Keysight 電學測試系統、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級相機、Semilab 半導體測試設備及高低溫探針臺系統。經過多年的發展，上海波銘科學儀器有限公司在市場上已取得了一定的地位。我們的產品和服務在行業內具有較高的知zhi名度和美譽度，客戶遍布全國。我們將繼續努力，不斷提升市場地位和影響力。
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