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詳細介紹
品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
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可以透明地評估納米量級的污染物和缺陷。
單次拍攝瞬時深度信息
無需對焦即可實現高速測量
非破壞性、非接觸式和非侵入式測量
高速掃描任何表面,便于確定測量位置
分辨率 x,y | 691 nm(單次),488 nm(成分) | |||
視場 x,y | 700×700微米 | |||
分辨率 z | 10 nm(延遲) | |||
數字重對焦范圍 z | ±700微米 | |||
樣本量 | 100×80×t20 mm | |||
(連接多功能樣品架時) | ||||
樣品臺 | 用于微調的自動 XY 載物臺 | |||
X:±10 mm Y:±10 mm | ||||
用于粗調的載物臺 | ||||
X:129 mm Y:85 mm | ||||
激光 | 波長 638 nm | |||
輸出 0.39 mW 以下,Class1 | ||||
(對樣品的照射強度) | ||||
描述 | 主機:505(W)×630(D)×439(H) | |||
(寬度×深度×高度)毫米 | ||||
重量 | 41 千克 | |||
功耗 | 主機:290 VA | |||
*不包括PC和配件。 |
納米階的形狀信息可以通過非接觸、非破壞性和非侵入性的方式獲得。通過單次拍攝獲取深度方向信息,可以可視化和量化透明薄膜表面的劃痕以及肉眼看不見的缺陷的橫截面形狀。
透明薄膜內的填充物可以在一次拍攝中觀察到,這是肉眼看不見的。此外,通過在測量后改變深度方向的焦點,可以識別每個深度的填料。
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