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詳細介紹
| 品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
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| 膜厚范圍 | 0.1～300 μm |
| 測量幅度 | 500 mm～最大10 m |
| 測定間隔 | 1 ms～ |
| 裝置大小(W×D×H） | 81×140×343 mm |
| 重量 | 4 kg(僅頭部) |
| 最大功耗 | AC100 V±10% 125VA |
500mm寬的包裝薄膜
上海波銘科學儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統、晶萃光學機械和光學平臺、激光器、Edmund 光學元件、Newport 產品、濱松光電探測器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀、是德 Keysight 電學測試系統、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級相機、Semilab 半導體測試設備及高低溫探針臺系統。經過多年的發展，上海波銘科學儀器有限公司在市場上已取得了一定的地位。我們的產品和服務在行業內具有較高的知zhi名度和美譽度，客戶遍布全國。我們將繼續努力，不斷提升市場地位和影響力。
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